對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)

 

　　隨著水質(zhì)分析技術(shù)的進步和公眾健康意識的提升，除了傳統(tǒng)關注的三鹵甲烷(THMs)和鹵乙酸(HAAs)，一類被稱為“新興消毒副產(chǎn)物(EDBPs)”的污染物也逐漸受到重視。其中，(NDMA)因其強的致癌性(美國環(huán)保署將其歸為B2類致癌物，終生致癌風險濃度僅為0.7 ng/L)成為研究焦點。
 

　　01
 

　　背景介紹
 

　　NDMA在水處理過程中主要通過含氮有機物前體(如二甲胺)在氯胺(尤其是一氯胺)或氯消毒條件下，經(jīng)復雜反應生成。此外，部分工業(yè)排放和制藥行業(yè)也是NDMA的重要來源。

　　由于NDMA具有高水溶性和低分子量，常規(guī)的混凝、沉淀、過濾等工藝對其去除效率極低，傳統(tǒng)氯消毒反而可能促進其生成。因此，NDMA的深度處理技術(shù)已成為現(xiàn)代飲用水處理領域亟需解決的重大課題。
 

　　紫外線技術(shù)憑借其消毒和光化學轉(zhuǎn)化的雙重能力，為NDMA的控制提供了獨特且有效的解決方案。通過紫外線技術(shù)，可以從“預防生成”和“深度去除”兩個層面系統(tǒng)解決飲用水中的NDMA問題。
 

　　02
 

　　NDMA的特性、形成機理與風險

　　? 特性
 

　　NDMA(分子式：C?H?N?O)是一種淡黃色、低揮發(fā)性、高水溶性的小分子化合物，這些特性使其難以通過空氣吹脫或常規(guī)吸附有效去除。
 

　　? 形成機理
 

　　機理為：水中存在二甲胺(DMA)、三甲胺(TMA)等叔胺類化合物，或含二甲胺基團的藥物、農(nóng)藥等，在氯化作用下，氯胺與二甲胺反應生成(UDMH)，UDMH進一步氧化，最終形成NDMA。
 

　　值得注意的是，高pH值、過量氯胺和較長反應接觸時間都會顯著促進NDMA的生成。因此，從源頭控制前體物、優(yōu)化消毒策略(如采用基于紫外線的多屏障消毒策略)是預防NDMA生成的第一道防線。
 

　　? 風險
 

　　毒理學數(shù)據(jù)顯示，NDMA具有很強的致突變性和致癌性，對肝臟、腎臟等器官均有損傷。世界衛(wèi)生組織(WHO)及多國均為其制定了極為嚴格的飲用水標準(通常為納克/升級別)。NDMA的形成主要與氯消毒，特別是氯胺相關。
 

　　03
 

　　紫外線光解
 

　　解決NDMA問題的最直接方式
 

　　紫外線技術(shù)去除NDMA并非依賴單一機制，而是基于光化學原理的多路徑協(xié)同體系。其核心機制是直接光解，這是經(jīng)濟高效的方式。NDMA分子在紫外光譜區(qū)，尤其是220-260 nm范圍內(nèi)，具有強烈的吸收峰。當UV光子被NDMA分子吸收后，其N-N鍵發(fā)生均裂，生成二甲胺自由基和·NO自由基，這些中間產(chǎn)物可進一步氧化或發(fā)生其他反應，最終礦化為無害的硝酸鹽、甲胺和二氧化碳。
 

　　主要反應

　　紫外線光解技術(shù)的優(yōu)勢在于高量子產(chǎn)率。NDMA的直接光解量子產(chǎn)率較高(在254 nm波長下約為0.3)，每個被吸收的光子有較高概率引發(fā)降解反應，能量利用效率很高，且光解速率常數(shù)遠高于許多其他有機微污染物。這意味著在較低的UV劑量下即可實現(xiàn)有效降解。
 

　　光源選擇方面，中壓紫外燈(MPUV)是優(yōu)選，因為其寬譜輸出(200-400nm)能覆蓋NDMA的最大吸收波段。相比主要輸出254 nm的低壓紫外燈(LPUV)，在同等電功率輸入下，MPUV對NDMA的降解效率通常高出30%-50%。

　　核心反應器
 

　　劑量設計方面，為實現(xiàn)1-2個數(shù)量級(90%-99%)的NDMA去除，通常需要施加數(shù)百至一千 mJ/cm²的UV劑量，這遠高于常規(guī)消毒所需劑量(40 mJ/cm²)。因此，設備選型和能量配置需以此為基準。需要注意的是，系統(tǒng)劑量與摩爾吸光系數(shù)高度相關，通俗來說就是紫外線透過率(UVT)，劑量設計首先要考慮UVT的波動。
 

　　04
 

　　紫外高級氧化工藝(UV-AOPs)
 

　　解決NDMA問題的有效方式
 

　　當水體背景復雜，存在大量紫外吸光物質(zhì)(如天然有機物NOM)與NDMA競爭光子時，直接光解效率會因“內(nèi)濾效應”大幅降低。此時需引入紫外高級氧化技術(shù)(UV-AOPs)，如UV/H?O?工藝。

安力斯高級氧化系統(tǒng)
 

　　UV光解H?O?可產(chǎn)生強氧化性的·OH自由基。·OH無選擇性地攻擊NDMA分子，通過氫原子抽取等途徑使其降解。·OH的氧化性很強，反應速率常數(shù)很高，能有效克服背景有機物對光子的競爭，保證在復雜水質(zhì)下NDMA的穩(wěn)定去除。

安力斯紫外高級氧化設備
 

　　此外，紫外高級氧化體系中同時存在直接光解和·OH氧化兩條路徑，處理效果更有保障。該技術(shù)適用于UVT較低(如<90%)、NDMA前體物濃度高或需同時去除多種微量有機污染物的場景。